京迈研2343 贵金属银靶材（Ag） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2314 锆靶材 （Zr）磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2344 贵金属铼靶材（Re）磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研3570 镧铈锰氧靶材LaCeMnO3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

京迈研2342 贵金属金靶材（Au） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2345 贵金属铂靶材（Pt） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研3566 钴锶镧氧靶材（LaSrCoO3）磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

京迈研2346 贵金属钯靶材 （Pd）磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2349 贵金属铱靶材（Ir） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2347 贵金属铑靶材（Rh） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

1726 京迈研 高熵合金 铝铬钛铌锆合金靶材 AlCrTiNbZr磁控溅射镀膜材料 纯度3N

京迈研3571铝酸锶靶材Sr3Al2O6磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料