京迈研2352 金属砷靶材（As） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2501 高纯金颗粒（Au）99.999 电子束镀膜蒸发料

京迈研3522 氧化铜靶材(CuO) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2330金属锗靶材(Ge) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研3526 氧化铁靶材(Fe2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研3510 氧化锌靶材(ZnO) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2327 金属镍靶材（Ni）磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2321 钠靶材金属（Na） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研3519 三氧化钨靶材(WO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研2328 金属锡靶材（Sn） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研3513 氧化钕靶材(Nd2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

京迈研 1014有色金属环形铜靶材 定制尺寸 纯度5N 磁控溅射材料