京迈研3409 碳化钨靶材(WC) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3413 二硫化钨靶材(WS2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研 3549 氧化锡靶材(SnO2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3554 氧化铕靶材(Eu2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3410 碳化锆靶材(ZrC) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3559 钽酸锂靶材 (LiO3Ta)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3411 硼化锆靶材(ZrB2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3558 二氧化钼靶材 （MoO2）磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3537 氧化铟镓锌IGZO靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3535 氧化钇靶材(Y2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研3538 氧化铟靶材 (In2O3)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
京迈研2336 稀土金属钆靶材(Gd) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
联系电话
留言内容