上海微行PECVD型等离子增强化学气相沉积系统积

PECVD产品简介：此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。

主要功能和特点：

 

1、利用辉光放电产生等离子体电子激活气相；

2、提高了气相反应的沉积速率、成膜质量；

3、可通过调整射频电源频率来控制沉积速率；

4、能广泛用于：石墨烯、SiO_x、SiN_x、CN_x、TiC_xN_y等薄膜的生长。

 

 

滑轨管式炉技术参数
		石英管尺寸			L1400mm  Φ（60、80、100）
		加热元件			掺钼铁铬铝合金电阻丝
		测温元件			K型热电偶
		加热区长度			400mm
		恒温区长度			200mm
		工作温度			1100
		控温模式			模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
		控温精度			±1
		升温速率			20/min
		电功率			AC220V/50HZ/3KW
质量供气系统技术参数
	外形尺寸				600x600x600mm
	标准量程				50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）；
	压力表测量范围				-0.1Mpa0.15Mpa
	极限压力				3MPa
	针阀				316不锈钢
	截止阀				Φ6mm 316不锈钢针阀
	电功率				AC220V/50HZ/20W
	响应时间				气特性：14 Sec，电特性：10 Sec
	准确度				±1.5
	线性				±0.51.5
	重复精度				±0.2
	接口				Φ6,1/4''
真空系统技术参数
			外型尺寸	600×600×600mm
			工作电电压	220V±10  5060HZ
			功率	400W
			抽气速率	4Ls
			极限真空	4X10-2Pa
			实验真空度	1.0X10-1Pa
			容油量	1.1L
			进气口口径	KF25
			排气口口径	KF25
			转速	1450rpm
射频电源
			信号频率	13.56 MHz±0.005
			功率输出范围	3W-300W   5W-500W可选
			最大反射功率	200W
			射频输出接口	50 Ω, N-type, female
			功率稳定度	±0.1
			谐波分量	-50dbc
			供电电压	单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ
			整机效率	>=70
			功率因素	>=90
			冷却方式	强制风冷

                                                                                        袁

                                                                                            2913014075

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