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京迈研 3560 氧化镝靶材 Dy2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3522 氧化铜靶材(CuO) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3506 氧化镍靶材(NiO) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3518 羟基磷灰石靶材(Ca2O5P) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3516 氧化镱靶材 (Yb2O3)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研2344 贵金属铼靶材(Re)磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3519 三氧化钨靶材(WO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3513 氧化钕靶材(Nd2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3521 氧化铋靶材(Bi2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3523 氧化亚铜靶材(Cu2O) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3511 铌酸锂靶材(LiNbO3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3528 二氧化钒靶材(VO2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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