电子束纳米曝光系统 DY-2000A 电子束光刻系统

    2、图像采集模块     图像采集部分我们选用新一代高性能，12位模数转换器，仅需单电源供电。具有真12位线性度，温度漂移小。具有独立完整的ADC，内置高性能，低噪声的采样放大器，在额 定数据处理中提供真12位精度，不存在失真现象。

    3、电源模块     电源部分包括模拟和数字两部分     模拟部分：模拟电路和所有放大器电路主要采用线性电源，利用其输出纯净性高，防电磁干扰能力强，纹波小，调整率好。缺点就是体积大，发热量偏高 。     数字部分：采用线性电源和开关电源配合使用，需要效率高的采用开关电源，需要精度高的采用线性电源。

    4、恒温模块•   我们在X，Y在高精度的数模转换，DSP信号处理和刻写场修正电路等部分做了恒温处理。

•   线性电源部分我们充分采用控温和散热处理。

•   DY-2000A抗干扰箱我们做了温控处理。

    5、显示控制单元     基于EBL曝光全过程是在电镜腔体中进行，我们无法直观的观其过程。 因此，我们在机箱上采用5.6寸LED液晶显示屏，特点是可以直观的，实时的跟踪曝光过程，同时还可以根据图形的显示来判断和提高曝光参数的设置。

    6、信号输入、输出I/O模块

 •   X,Y方向偏转的数模信号：采用进口BNC插头配防干扰屏蔽线。

 •   电镜图像信号的采样 ：   采用进口BNC插头配防干扰屏蔽线来接入

 •   束闸控制和SEM远程控制：采用进口BNC插头配防干扰屏蔽线来输出

 •   与PC软件的通信：采用320M并口传输，传输速度快，信号纠错能力强还能同时进行多任务操作。

    7、束闸输出模块     束闸输出信号为0v和5v TTL电平，带负载能力强，用于驱动高速通断的束闸控制器。

    8、防电磁干扰模块

 •   独立完整的X方向数模转换和控制部分和独立完整的Y方向数模转换和控制部分，同时为其分别安排了屏蔽的小黑盒。

 •   线性电源和开关电源，均做了独立的防干扰和屏蔽的处理。

    硬件技术参数

   DY-2000A纳米图形发生器软件

    软件技术参数

•   基于Windows中文操作系统的EBL应用软件，具有强大的图形编辑，界面简洁，容易操作，兼具读写及转换及图形导入等功能。

•   具有远程控制SEM/FIB/STEM的功能。

•   具有图像缩放和重叠功能，同时可实现快速图像采集，同步等等。

•   可实现位移，旋转，增益矫正刻写场，提升曝光结果的分辨率。

•   具有标记检测和位置修正，用于拼接和套刻对准。

•   具有曝光、工件台移动和束闸通断等功能控制。

•   可实现数据格式为DXF、CIF、ASCII等图形的读入和转换。

     •  具有点控、线控、区域及非特征图形的控制。

    电子束纳米曝光系统电子束加工工艺流程:

1).  清洗硅片2).  热氧化生长一层二氧化硅，进行衬底隔离，厚度约1um；3).  薄膜制备，GST（Ge-Sb-Te）与W采用磁控溅射法制备，SiN用CVD的方法制备，厚度为100nm4).  涂胶:PMMA(950k)，浓度2％

5).  曝光后显影：使用高对比度显影液(MIBK：IPA= 1:3)

衬底类型	涂胶转速(rpm)	旋涂时间(sec)	前烘方式	前烘温度(℃)	前烘时间(min)	抗蚀剂厚度(nm)
GST、W、SiN	4000	30	热板	180	10	120～150

    电子束纳米曝光系统DY-2000A实验事例

     一、FIB刻蚀的图形

     二、电子束曝光的图形

电子束纳米曝光系统DY-2000理想配套-电子光学系统                                                                                        ---蔡司-场发射扫描电镜-ZEISS Sigma 300、500拥有高品质成像和分析功能的场发射扫描电镜场发射扫描电镜-ZEISS Sigma 300、500 配置组件选择

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