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京迈研3529 氧化镓靶材(Ga2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3514 五氧化二铌靶材(Nb2O5) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3512 四氧化三钴靶材(Co3O4) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研2343 贵金属银靶材（Ag） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3517 氧化锌铝AZO靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研2352 金属砷靶材（As） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3515 三氧化二铬靶材(Cr2O3) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3561 氧化铒靶材 Er2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3431 硫化亚锡靶材 SnS磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3567 锰酸锂靶材 LiMn2O4磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研 3564 铋酸铜靶材 CuBi2O4磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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