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京迈研3422 硫化铟靶材 In2S3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3415 硫化亚铜靶材 Cu2S磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3432 硒化锡靶材 SnSe磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研 3562 氧化钬靶材 Ho2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3566 钴锶镧氧靶材(LaSrCoO3)磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3425 碳化钽靶材 TaC磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3427 硒化锑靶材 Sb2Se3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3423 硒化铟靶材 In2Se3 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3433 氮化硅靶材 Si3N4磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3428 碲化锑靶材 Sb2Te3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3426 氟化镁靶材 MgF2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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京迈研3429 钛锆酸铅靶材 PZT靶材磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
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