上海供应磁控溅射镀膜(Rh)靶材 厂家直销贵金属铑靶99.99%以上纯度4N 实验室科研专用铑靶片 铑粒 铑环

高纯贵金属铑溅射靶材(Rh)铑环 铑颗粒 蒸发镀膜材料

 

产品名称：	铑靶、铂靶、钯靶、银靶、铱靶
牌号规格：	Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 ：	主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜酞阳能及平面显示等领域。

 

 

 

产 品 详 情

随着磁控溅射镀膜靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜酞阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

 

铑溅射靶材Rhodium (Rh)

形状	圆形、方形
尺寸	Φ50170mm
厚度	315mm
纯度	3N5

注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

 

 

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