上海供应磁控溅射镀膜靶材(Ir) 高纯度贵金属铱靶99.99%以上纯度4N 实验室科研专用铱靶片 铱粒 铱丝

高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材(Ir) Iridium 铱靶

 

产品名称：	铱靶、铂靶、钯靶、银靶、铑靶
牌号规格：	Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1
用途 ：	主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜酞阳能及平面显示等领域。

 

产 品 详 情

随着镀膜沉积靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜酞阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

 

铱溅射靶材Iridium (Ir)

    规格尺寸：

形状	圆形、方形
尺寸	Φ50170mm
厚度	315mm
纯度	3N5

注：具体尺寸请联系销售。

 

搜好货厂家振卡（上海）实业发展有限公司为您提供上海供应磁控溅射镀膜靶材(Ir) 高纯度贵金属铱靶99.99%以上纯度4N 实验室科研专用铱靶片 铱粒 铱丝的详细产品价格、产品图片等产品介绍信息，您可以直接联系厂家获取上海供应磁控溅射镀膜靶材(Ir) 高纯度贵金属铱靶99.99%以上纯度4N 实验室科研专用铱靶片 铱粒 铱丝的具体资料，联系时请说明是在搜好货网看到的。