上海供应磁控溅射镀膜靶材(Ru) 高纯度贵金属钌靶99.99%以上纯度4N 实验室科研专用钌靶片 钌粒 钌丝

供应高纯贵金属钌（Ru）磁控溅射镀膜沉积靶材

 

产品名称：	钌（Ruthenium -Ru）溅射靶材
牌号规格：	Ru2
用途备注：	钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等

 

产 品 详 情

   贵金属钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、

大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术，能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌(Ru)溅射靶材。

规格尺寸
形状	圆形、方形
尺寸	Φ10200mm
厚度	315mm
纯度	4N
注：其它尺寸可根据客户要求制作。

 

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