上海销售进口韩国ITO靶材 磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜，广泛应用于酞阳能、LCD、TP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式，

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多 ，高端TFT-LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、住友、日本能源、三井,日矿金属，韩国三星康宁等公司

 

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt) 其他比例以客户要求为准

相对密度: 99.5（理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99

尺寸规格:依据客户要求为准

 

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99以上,主要杂质元素Cu、Fe、Pb、Si、Ni分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm。

2)相对密度:相对密度要求在99.5以上,密度均匀度偏差

0.15。

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3相,

             Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:

120MPa。

 

搜好货厂家振卡（上海）实业发展有限公司为您提供上海销售进口韩国ITO靶材 磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发的详细产品价格、产品图片等产品介绍信息，您可以直接联系厂家获取上海销售进口韩国ITO靶材 磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt% 真空镀膜沉积靶原厂进口批发的具体资料，联系时请说明是在搜好货网看到的。