高纯硼靶材 硼颗粒 氮化硼靶材 陶瓷溅射靶材

金属溅射靶材

B ：高纯硼靶材 纯度99.9

原子量： 10.811

熔点：2075

沸点：2550

密度：2.34

我公司采用3N硼为原料制作溅射靶材，可用于耐高温合金工业，半导体材料，核化学中用作种子吸收剂。

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