厂家供应 贵金属钌靶 高性能靶材 钌圆靶 钌溅射靶材 接受定制

密度

12.37g/cm³

熔点

2250℃

技术指标

纯度

99.5%

相对致密度

>99%

切面平整度

3.2Ra

公差

±0.1mm

晶粒度

均匀

材质

Ru

产品规格

规格01多弧靶：直径<1000mm  厚度>1mm 

规格02矩形：长度：不限 宽度：不限 厚度：不限  矩形/片材/台阶状(长宽可拼接）

规格03圆柱：外直径<420mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm（管材/圆环/旋转靶材）

规格04：颗粒球型，粉末型

规格05：根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工

最少起订量

1件，量大优惠

交货期

原材料各种尺寸大量备货，长期供应，质量可靠。

制作工艺

真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

产品用途

真空镀膜，实验或研究级别用钌靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等

产品优点

质量可靠，价格优惠

真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少

轧制致密，氧化少，成型可塑

 相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致\性高

产品附件

正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

包装方式

真空包装

Os

Pt

Ni

Fe

Si

Pd

Ti

As

4

2

2

5

8

2

2

2

Bi

Cu

Zr

Ca

Zn

Se

Mg

2

2

2

2

2

2

2

杂质成分（低于仪器检测范围）（ppm）

V

Sn

Rh

Ir

Mo

Ag

Cd

Sb

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

Mn

Al

Co

Te

Au

B

Pb

Cr

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2

＜2