￥30600
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产品简介：VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空，使样品在完全真空的状态下进行涂膜，适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用。VTC-200PV真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样盘上，该设备可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同，使设备缓慢提升速度至极限速度，有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜，且不会过多浪费，节约材料。VTC-200PV真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
产品名称 | VTC-200PV真空旋转涂膜机 | ||
产品型号 | VTC-200PV | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有进出水口 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：不需要 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通风装置：需要 | ||
主要特点 | 1、设有12组程序，每组包含6个运行阶段。 2、真空吸附方式固定样件，操作简便。 3、真空度可以达到-0.08MPa。 4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。 5、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。 6、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。 7、本机可置于手套箱内使用，但控制部分与真空泵需置于箱外。 8、可在惰性气体气氛下图层 9、可在真空状态下图层，在此状态下图层，需要粘接基片或夹持基片方可实现 | ||
技术参数 | 1、功率：350W 2、转速：500rpm-6000rpm 3、时间：1s-60s 4、腔体真空度可达1Torr（VRD-16机械泵连续工作） | ||
产品规格 | 尺寸：Ø250mm×290mm；重量：25kg | ||
标准配件 | 1 | 真空吸盘 | 1个 |
2 | 夹持吸盘 | 1个 | |
3 | 无油真空泵 | 1台 | |
可选配件 | VRD-16机械泵
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| 加工定制 : | 否 |
| 类型 : | 真空旋转涂膜机 |
| 品牌 : | 科晶 |
| 用途 : | 本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备 |
| 型号 : | VTC-200P |
| 产地 : | 沈阳 |
| 是否进口 : | 否 |
| 订货号 : | 10070 |
| 货号 : | gy10070 |
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