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锗片透镜 详细描述 　

　在2-12μm范围内，锗是制作高效红外成像系统中光学镜头和光学窗口最常用的材料。锗具有高折射率(2-14μm波段时约为4.0)、表面最小曲率和色差小的特性，在低功率成像系统中，通常不需要修正。 　　锗受温度影响严重，透过率随温度的升高而降低，因此，它们只能在100摄氏度以下应用。在设计对重量有严格要求的系统的时候要考虑锗的密度(5.33 g/cm3)。锗主要应用在热成像系统和前视红外(FLIR)领域里面。   　　锗透镜 　　材料 锗 　　类型 平凸 平凹 双凸 双凹 弯月 　　直径 5-300mm+0/-0.2 　　小心偏 <3分 　　焦距公差 ±2 　　面形 N<λ/4@633nm 　　表面质量 60/40 　　通光孔径 >90 　　倒角 保护性<0.5mmX45度

区熔锗锭（Zone refined germanium ingot）是指用区熔方法提纯得到的锗锭，合格产品纯度在99.9999%以上，电阻率达到47欧.cm(23+/-0.5度)以上，条状，梯形截面（26mmB×21mmT×23mmL），银灰色金属光泽，表面无裂纹（细看有多晶花纹），无粘渣，性脆，易断裂，硬度5.0左右，微导电，属于典型的半导体，不溶于盐酸，硝酸和常碱，但溶于HF、王水和热的NAOH溶液中，在有H2O₂作用下溶解速度更快。区熔锗锭是纯度很高的多晶，主要用于锗单晶生产的原料。我国是世界上最主要的锗材料生产大国，每年产量60多吨，由于其主要用于制造卫星上的电池片和武器装备上的夜视仪，且其在地球上的含量极其稀少（按照目前国内锗的开发速度，50年左右即将将国内锗消耗殆尽），发达国家都将其作为战略储备物资予以存储和投放。

氧化锗是白色粉末,六方晶系、四方晶系或无定形固体。六方晶系:相对密度4.228,熔点(1115±4)℃。四方晶系:相对密度6.239,熔点(1086±5)℃。氧化锗是一种以酸性为主的两性氧化物，即可溶于强酸，也可溶于碱溶液。在溶于酸溶液时，不同浓度的氢离子对应不同产物。

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