奥超600 超声波晶片清洗设备 晶片超声波清洗设备 晶片清洗机厂家

1300

起订量

≥2台

总供应

2400台

所在地

山东省济宁市

  • 图文详情
  • 产品属性
  • 硅片晶圆生产清洗工艺中,使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有独立控制,随意组合

    1、炉前清洗:扩散前清洗。

    2、光刻后清洗:除去光刻胶。

    3、氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。

    4、抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。

    5、外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。

    6、合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。

    7、离子注入后的清洗:除去光刻胶,SiO2层。

    8、扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。

    9、CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。

    10、附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物

    搜好货厂家济宁奥超电子设备有限公司为您提供奥超600 超声波晶片清洗设备 晶片超声波清洗设备 晶片清洗机厂家的详细产品价格、产品图片等产品介绍信息,您可以直接联系厂家获取奥超600 超声波晶片清洗设备 晶片超声波清洗设备 晶片清洗机厂家的具体资料,联系时请说明是在搜好货网看到的。

    型号 : JA-1000
    品牌 : 奥超
    加工定制 :
    类型 : 全自动
    适用领域 : 工业领域
    用途 : 工业用
    槽数 : 1
    超声清洗频率 : 25
    清洗温度 : 40
    工作方式 : 全自动
    外形尺寸 : 定制
    功率 : 4000W
    精品推荐
    您还可以找
    搜好货网 > 济宁奥超电子设备有限公司 > 奥超600 超声波晶片清洗设备 晶片超声波清洗设备 晶片清洗机厂家