超声波晶片清洗机厂家 晶片超声波清洗设备 山东奥超600W

硅片晶圆生产清洗工艺中，使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元，各部分有独立控制，随意组合

1、炉前清洗：扩散前清洗。

2、光刻后清洗：除去光刻胶。

3、氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。

4、抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。

5、外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。

6、合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。

7、离子注入后的清洗：除去光刻胶，SiO2层。

8、扩散预淀积后清洗：除去预淀积时的BSG和PSG。

9、CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。

10、附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物

搜好货厂家济宁奥超电子设备有限公司为您提供超声波晶片清洗机厂家 晶片超声波清洗设备 山东奥超600W的详细产品价格、产品图片等产品介绍信息，您可以直接联系厂家获取超声波晶片清洗机厂家 晶片超声波清洗设备 山东奥超600W的具体资料，联系时请说明是在搜好货网看到的。