源头厂家直销 供水消毒杀菌 紫外线杀菌器 半导体 超纯水 不锈钢 紫外线杀菌器

紫外线杀菌器在电子工业行业应用

技术参数

1环境条件

1）环境温度：0°C~+50℃C，宣内无腐蚀性气体

2）相对湿度：不大于93%（温度25℃时）

3）设备要安装在室内防止阳光暴晒和雨淋

4）房间通风、干燥，地板清洁、不起灰尘注意：粉尘和腐蚀性气体会对电气元件造成损坏，影响使用效果和寿命。

2水质条件

3.工作条件

1）水温：5℃-60℃1）电压：220V±20V，50Hz2）色度：≤15度

2）设备承压：≤0.6MPa3）浊度：≤5NTU

3）清洗间隔时间：标准型7d/次

4）含铁量：≤0.3mg儿L（可调），气动清洗型24h/次

5）含锰量：≤0.05mg/L（可调），每次17min（可调

6）硬度：120mg/L（CaCo3）4）连接方式：法兰（可选）7）细菌总数：≤2000个/mL

超纯水对电子制造至关重要，无论是晶片、半导体、扁平面板还是大容量存储器。海诺威紫外线在整套水处理设备中起到了重要作用，进行消毒、去除有机物、去除臭氧和去除余氯。此外，过氧化处理对原水和再生水越来越重要，水质量要求越来越高，水资源可利用量面临越来越来大的挑战。

 

在活性炭过滤器、DI树脂和储水罐这样的微生物易繁殖区域之后，细菌控制极为重要。通过特殊紫外线灯管降低总有机碳(TOC)，破坏分子键同时激发水分子中生成分解有机化合物的积极羟自由基，进而分解低水平有机物。海诺威超级总有机碳中压紫外线系统灯管数量比传统灯管减少了高达95%，同时在大流量水处理中运作和维修成本会降低50%或者更多。

 

臭氧经常用于去除总有机碳和保护储罐中的水，但是臭氧必须被去除，否则就会使设备退化，且不能与晶片接触。中压紫外线保证去除水罐出水中的臭氧，并且不需要使用任何化学药剂或加热。

 

对再生水和含特殊污染物的水进行高级氧化处理，对全世界的晶圆制造厂来说都非常有价值。由于所有处理工艺通常都是在现场调整，所以需要特别考虑

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