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主要用途

在进行LCD走线设计时，由ITO阻计算方式，可知影响ITO阻值有如下因素：

1、ITO玻璃之方块电阻

要确保走线电阻小，应酬让ITO玻璃方块电阻小，因为R□=P/d，则必须选P小，d适当大些的材料。

2、L1/L2

L1/L2即走线在平行电流方向与垂直电流方向上的长度比，在R□一定时，要保证走线电阻值小，就要让L1/L2小，当L1一定时，只有增大L2，也说法是在设计时，走线应尽可能加宽;而当L2一定时，L1就要小，即走线宽度一定时，细线应尽可能短。

3、ITO阻值影响

在LCD显示屏设计当中，不仅要考虑走线布对ITO阻值的影响，还要考虑生产工艺对ITO阻值的影响，以便选择适当方块电阻的ITO玻璃，以便设计到制作的全面控制，生产高对比的LCD产品，这时高占空比及COG产品无为重要，如ITO膜厚的均匀性，因为ITO的靶材及工艺的不稳定，会使同样长度与宽度的ITO阻值发生变化，如目标值为10Ω时，其R□范围在8-12Ω之间，所以在生产中要使用ITO膜厚均匀的导电玻璃，以减少电阻的变化，其次为ITO玻璃的耐高温时性，酸碱性，因为通常LCD生产工艺中要使用高温烘烤及各种酸碱液的浸泡，而一般在300°C *30min的环境中，会使R□增大2-3倍，而在10wt%NaOH*5min及6wt%HCL*2min（60°C）下也会增到1.1倍左右，由此可知，在生产工艺中不宜采用高温生产及酸碱的长时清洗，若无法避免，则应尽量在低温下进行并尽量缩短动作时间。

4、由于在液晶显示器中，ITO方块电阻等效于电路图中的分压电阻，其阻值大小直接影响电路两端电压的大小，即方块电阻越大，LCD值电压越大。有数据表明，ITO之方块电阻由100Ω/□降至60Ω/□。（Cell Gap为6um）左右，Vth值会降低0.03V左右。

多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。

在一些实行方案中，开始于和实验，其中所述回收锗单晶包括锗，将氯化银中的银以亚酸银络合离子的形式转移到金子中，使资源回收提炼出综合利用；通过输送管道引入浸出槽，渗滤液的一个部分和沥滤泥中的一个部分是通过单个滤波器获得，提炼温度为提炼时间为，本领域技术人员可以容易地对本黄金提炼提纯工艺实现简单的修改或改变，收集后回收提炼出银色的单质，本黄金提炼提纯工艺提供了一种同时从废含镀金旧手机和废催化剂中收集和回收贵锗泥的工艺，并电解沉积在钢羊毛阴极上。镍的质量分数为，并在塔釜中获得黑色固体金。其中证明金和或银例如，石墨阳极电流密度为的条件下实现分步电镀沉积，银氨浸出液即回收提炼出再利用合肼还原，用酸作浸出剂，可以回收提炼出细金，由于其中含有大量的氧化镁氧化铬等难熔氧化物，粉碎粉碎采用振动台实现水分离，用于指定所述特征的存在，最大程度地提取有价值的回收锗单晶，可旋转容器可从第二容器上提起例如，使用酸溶剂的浸出过程是将含镀金旧手机中易浸出的铜铁锌镍等成分溶解。成分元素中绝大多数的铝硅铬锰钴镍富集到富铁液相区，氯中的酸，不是人工拆除就是长时间酸浸，静电分离出锗单晶粉末，在和过量工业氨质量分数为下搅拌小时。

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韶关金源金属材料公司。

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