¥5.30
1-9件
¥5.20
10-99件
¥5.10
≥100件
起订量
≥1件
总供应
10000件
所在地
江苏省苏州市
硅片抛光:为了制备符合器件和集成电路要求的硅片表面,去除残留的损伤层,获得一定厚度的高平整度镜面硅片。抛光分机械抛光、化学抛光、电子束抛光、离子束抛光,比较常用的是化学机械抛光。化学机械抛光同时是化学蚀刻和机械研磨,分为铜离子抛光、铬离子抛光和常用的二氧化硅胶体抛光。二氧化硅胶体抛光是由极细的二氧化硅、NAHO(或有机碱)和水配制而成的胶体抛光液。在抛光过程中,NAHO与硅表面反应生成硅酸钠,通过与二氧化硅胶体研磨,将硅酸钠放入抛光液中,两个过程同时不停顿,达到抛光的目的。根据要求,可以使用初级、二级(粗和细)或三级(粗、中、细)抛光。为了满足vlSI对表面质量和平整度的要求,开发了无蜡抛光、无磨损抛光等新工艺。
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品牌 : | 永旭 |
型号 : | 回收单晶硅片 |
化学类型 : | 多晶硅太阳电池 |
结构类型 : | 同质结太阳电池 |
使用状态 : | 平板太阳电池 |
输出功率 : | 4.91W |
工作电压 : | 0.76V |
转化效率 : | 20.73% |
填充因子 : | 0.71 |
工作电流 : | 6.17A |
并联电阻 : | 9.63Ω |
串联电阻 : | 0.29Ω |
开路电压 : | 0.97V |
短路电流 : | 6.96A |
外形尺寸 : | 158*158 |
参考重量 : | 8.28g |
产品认证 : | ce |
用途 : | 太阳能发电 |
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