京迈研3421 二硒化锗靶材(GeSe2) 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

1000

1-9件

900

≥10件

起订量

≥1件

总供应

200件

所在地

北京市市辖区

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  • 二硒化锗(GeSe2)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

    【参数说明】

    支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

    【产品介绍】

    橙色结晶体正交晶系结构。晶格常数1.296nm。密度4.56g/cm3。熔点707℃。空气中加热易氧化。不和酸作用。但易被氧化生成二氧化锗。在yan酸介质中由硒化qing和二氧化锗反应制取。为半导体材料。

    中文名

    二硒化锗

          

    4.56g/cm3

    化学式

    GeSe2

         

    707℃

     

    【关于我们】

    服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

    产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

    适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

    质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

    加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

    陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

    我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

     :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

    建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

    我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

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    材质 : 二硒化锗
    规格 : 根据客户要求定制
    型号 : 3421
    品牌 : 京迈研
    纯度 : 99.9
    价格 : 可面议报价
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