2331  钽（Ta）靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 

【产品介绍】

钽，金属元素，主要存在于钽铁矿中，同铌共生。钽的硬度适中 ，富有延展性，可以拉成细丝式制薄箔。其热膨胀系数很小。钽有非常出色的化学性质，具有极高的抗腐蚀性。虽然钽的抗腐蚀性很强，但是其抗腐蚀性是由于表面生成稳定的五氧化二钽(Ta2O5)保护膜。无论是在冷和热的条件下，对"王水"都不反应。可用来制造蒸发器皿等，也可做电子管的电极、整流器、电解电容。医疗上用来制成薄片或细线，缝补破坏的组织。

中文名	钽	熔点	2996°C
化学式	Ta	沸点	5425°C
相对原子质量	180.9479	密度	16.654 g/cm3

 

【关于我们】

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

注  ：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材，欢迎您的垂询。

搜好货厂家北京京迈研材料科技有限公司为您提供京迈研2331金属钽靶材（Ta） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料的详细产品价格、产品图片等产品介绍信息，您可以直接联系厂家获取京迈研2331金属钽靶材（Ta） 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料的具体资料，联系时请说明是在搜好货网看到的。