¥面议
起订量
≥1台
总供应
2台
所在地
广东省东莞市
台湾LP(龙翩)1650镀膜机销售:3台 | ||||||
一,配置清单: | ||||||
1,1650机腔 | ||||||
2,日本PLASMATECH单20穴 | ||||||
3,普发真空计 | ||||||
4,1台美国POLYCOOL 1102 | ||||||
5,上加热丝+阻蒸 | ||||||
6,275机械泵+爱德华2600罗茨泵 | ||||||
7,一直生产 ,DVD,三菱镜,颜色膜,AR+AF ,PVC膜 | ||||||
8,XTC-3晶控仪+6点晶控探头 | ||||||
9,配置美国大口径霍尔源。 | ||||||
10,配备大型伞架和上伞车,装载量大 |
二,主要技术指标:
UPS射频源,精控,,光学膜厚仪监控波长范围:400-1100nm,波长精度:<±1nm, 配置离子源,离子流密度分布均匀; 基底最高加热温度:300℃。 目前可淀积材料包括:SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O5、Al2O3等 蒸发速率0.5A/s-20A/s, 工作真空:5E-6mbar, 气体(Ar、O2)
三,主要功能:
主要用于可见~短波红外波段光学增透膜、高反膜、截止滤光片,窄带、超窄带、极窄带滤光片等光学薄膜蒸镀,配备两把电子和等离子体辅助源,一次可蒸镀多片不同尺寸(1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等)的样品。
六,真空蒸发镀膜原理
1.1 将膜材置于真空镀膜室内 , 通过蒸发源使其加热蒸发 。 当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后 , 蒸发的粒子从蒸发源表面上逸出 , 在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子 ( 主要是残余气体分子)的碰撞阻碍,可直接到达基片表面上凝结而生成薄膜。
1.2 真空镀膜特点
真空蒸镀法优点:设备比较简单 、操作容易;制成的薄膜纯度高 、质量好,厚度可较准确控制;成膜速率快,效率高;薄膜的生长机理比较简单;
缺点:不容易获得结晶结构的薄膜;所形成的薄膜在基板上的附着力较小;工艺重复性不够好等。
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型号 : | LP-BSA1650 |
新旧程度 : | 8成新 |
设备所在地 : | 东莞茶山 |
设备生产产地 : | 台湾 |
产品数量 : | 2 |
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