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回收介绍

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锗溅射靶材由高纯锗金属组成。是一种硬而脆的材料，具有半金属，灰白色的外观。它的密度为5.35 g / cc，熔点为937°C，在1,167°C下的蒸气压为10 -4 Torr。在光学存储介质和光学涂层的生产中，它经常在真空下蒸发以形成膜层。这种材料的其他用途是用作合金催化剂。

 

锗靶材制备工艺流程

备料 - 区域熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装

 

锗溅射靶材的应用应用领域覆盖红外光学、太阳能电池、光纤通讯、半导体、PET催化剂等产业。

锗靶材的其他合金形式

锗铜、金锗、锗锑碲合金靶材等

韶关金源金属材料公司。

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