直流磁控溅射仪 功率可控磁控溅射仪 离子溅射镀膜机

38600

起订量

≥1台

总供应

888台

所在地

河南省郑州市

  • 图文详情
  • 产品属性
  • 小型溅射仪

    KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。

    小型溅射仪(Sputtering System)是一种利用溅射技术制备薄膜的设备,主要用于制备和研究金属、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。

    它通常由四个主要组件组成:真空室、溅射腔体、靶材和控制系统。真空室是封闭的金属或玻璃盒子,用于维持真空环境,以避免杂质和气体干扰制备过程。溅射 是用于向靶材表面发射离子的设备,它可以控制溅射速率和角度,从而控制薄膜的厚度和均匀性。靶材是被准备薄膜所需的原材料,其材料和形状根据要制备的薄膜类型而变化。控制系统是用于控制整个设备的电子和电气系统,包括真空泵、用于创建和维持真空的电子控制器和电源、溅射 

    控制器和监控器等。

    小型溅射仪通常用于研究实验室或小批量生产,它具有制备稳定、纯净、均匀膜的优点,可以制备几纳米到数百纳米之间的薄膜。它也被广泛应用于电子器件、太阳能电池、显示器件、硬盘驱动器等领域。

     

    设备名称

    小型溅射仪

    控制方式

    7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

    工作电源

    直流溅射电源

    镀膜功能

    0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

    功率

    ≤1000W

    输出电压电流

    电压≤1000V  电流≤500mA

    真空

    机械泵 ≤5Pa(5分钟)     分子泵≤5*10^-3Pa

    溅射真空

    ≤10Pa

    挡板类型

    电控

    真空腔室

    石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

    样品台

    可旋转φ62  (可安装φ50基底)

    样品台转速

    8转/分钟

    样品溅射源调节距离

    40-105mm

    真空测量

    皮拉尼真空计(已安装   测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

    预留真空接口

    KF25抽气口      KF16放气口   6mm卡套进气口

     

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    规格 :
    类型 : 真空仪器与装置
    品牌 : 郑科探
    型号 : KT-Z1650PVD
    保修 : 一年
    真空 : 机械泵 ≤5Pa(5分钟)
    样品台转速 : 8转/分钟
    输出电压电流 : 电压≤1000V 电流≤500mA
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