¥38600
起订量
≥1台
总供应
888台
所在地
河南省郑州市
KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。
小型溅射仪(Sputtering System)是一种利用溅射技术制备薄膜的设备,主要用于制备和研究金属、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。
它通常由四个主要组件组成:真空室、溅射腔体、靶材和控制系统。真空室是封闭的金属或玻璃盒子,用于维持真空环境,以避免杂质和气体干扰制备过程。溅射 是用于向靶材表面发射离子的设备,它可以控制溅射速率和角度,从而控制薄膜的厚度和均匀性。靶材是被准备薄膜所需的原材料,其材料和形状根据要制备的薄膜类型而变化。控制系统是用于控制整个设备的电子和电气系统,包括真空泵、用于创建和维持真空的电子控制器和电源、溅射
控制器和监控器等。
小型溅射仪通常用于研究实验室或小批量生产,它具有制备稳定、纯净、均匀膜的优点,可以制备几纳米到数百纳米之间的薄膜。它也被广泛应用于电子器件、太阳能电池、显示器件、硬盘驱动器等领域。
设备名称 | 小型溅射仪 |
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
工作电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤500mA |
真空 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤10Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa) |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
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规格 : | 台 |
类型 : | 真空仪器与装置 |
品牌 : | 郑科探 |
型号 : | KT-Z1650PVD |
保修 : | 一年 |
真空 : | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) |
样品台转速 : | 8转/分钟 |
输出电压电流 : | 电压≤1000V 电流≤500mA |
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