蒸汽加热冷却控温设备 反应器温度控制系统

制冷加热控温系统

控温范围：-120°C ~ +300°C

特点：不仅可以控制导热介质温度，还可以控制反应物料温度

应用：各种反应器（微通道、玻璃、夹套反应器等）、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、汽车工业、半导体和电气测试、化学、制药、石化、生化、研发车间、航空航天和生物等行业。

型号		SUNDI-320	SUNDI-420W	SUNDI-430W
介质温度范围		-30℃～180℃	-38℃～180℃	-40℃～200℃
控制系统		前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器
温控模式选择		物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制		设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑		可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤
通信协议		MODBUS RTU 协议  RS 485接口
物料温度反馈		PT100
温度反馈		设备进口温度、设备出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度
导热介质温控精度		±0.5℃
反应物料温控精度		±1℃
加热功率		2kW	2kW	3kW
制冷能力	180℃	1.5kW	1.8kW	3kW
	50℃	1.5kW	1.8kW	3kW
	0℃	1.5kW	1.8kW	3kW
	-5℃	0.9kW	1.2kW	2kW
	-20℃	0.6kW	1kW	1.5kW
	-35℃		0.3kW	0.5kW
循环泵流量、压力		max10L/min  0.8bar	max10L/min  0.8bar	max20L/min  1bar
压缩机		泰康/思科普
节流方式		电子膨胀阀
蒸发器		板式换热器
操作面板		7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录
安全防护		具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环系统		整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。
制冷剂		R-404A/R507C
接口尺寸		ZG1/2	ZG1/2	ZG1/2
水冷型 W温度 20度			800L/H1.5bar~4barZG1/2	800L/H1.5bar~4barZG1/2
外型尺寸 cm		35*56*75	40*70*130	40*70*130
标配重量kg		55kg	60kg	85kg
电源		AC 220V 50HZ 2.9kW（max)	AC220V 50HZ 3.3kW（max)	AC380V 50HZ 5kW（max)
外壳材质		冷轧板喷塑 （标准颜色7035）
选配		可选配以太网接口，配置电脑操作软件
选配		选配外置触摸屏控制器，通信线距离10M
选配电源		100V 50HZ单相，110V 60HZ 单相，230V 60HZ 单相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相
选配		加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃，物料控温精度±0.1℃

　

　　在材料科学领域，材料合成环节，其质量、性能及稳定性直接决定了产品的应用效果和市场竞争力。反应釜控温大系统作为材料合成过程中的控温设备，正发挥着作用。

　　一、反应釜控温大系统的技术原理

　　反应釜控温大系统通过制冷剂或加热介质的循环流动，将热量从高温区域转移到低温区域或从低温区域吸收热量加热至设定温度，从而实现对反应釜内温度的准确调控。

　　二、反应釜控温大系统在材料合成中的应用

　　1. 高分子材料合成

　　在高分子材料的合成过程中，反应釜控温大系统能够准确控制反应温度，确保反应在温度范围内进行，从而合成出具有优异性能的高分子材料。例如，在聚合反应中，通过准确控温，可以控制聚合度、分子量分布等参数，提升材料的机械性能、耐热性和耐化学腐蚀性。

　　2. 纳米材料制备

　　纳米材料的性能与其尺寸、形貌和结构密切相关，而这些因素在很大程度上受到合成温度的影响。反应釜控温大系统能够在纳米材料制备过程中提供稳定的温度环境，确保纳米颗粒的均匀生长和形貌控制。

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