EDI超纯水设备 晶片切割制造应用 EDI超纯水设备

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超纯水设备生产超纯水采用了“反渗透+EDI+抛光混床”的综合技术，不但能深度去除超纯水中含有的各种离子、杂质和细菌，还能使出水电阻率达到18MΩ*cm（25℃），生产质量十分稳定。在芯片生产、太阳能光伏、化妆品等行业中，超纯水设备已经可以提供好的超纯水生产质量。

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