等离子清洗机 晶圆处理去除光刻胶

3200

起订量

≥1台

总供应

2000台

所在地

山东省烟台市

  • 图文详情
  • 产品属性
  • 等离子清洗机用于晶圆光刻胶去除。少量氧气被引入等离子体反应系统。在强电场的作用下,氧气产生等离子体,将光刻胶迅速氧化成挥发性气体,被抽走。等离子清洗机具有操作方便、效率高、表面清洁、无划痕等优点,有利于保证产品质量。而且不使用酸、碱、有机溶剂

    等离子清洗机用于半导体行业:晶圆的加工及处理去除光刻胶,封装前预处理,晶圆等离子清洗机晶圆光刻胶去除工艺蚀刻

    等离子清洗机能去除晶圆表面的无机物,还原氧化层,增加铜表面的粗糙度,提高产品的可靠性。

    等离子体清洗机去除晶圆表面光刻胶:等离子体清洗机在处理晶圆表面光刻胶时,等离子表面清洗能够去除表面光刻胶和其余有机物,也可以通过等离子清洗机活化和粗化作用,对晶圆表面进行处理,能有效提高其表面浸润性。相比于传统的湿式化学方法,等离子体清洗机干式处理的可控性更强,一致性更好,并且对基体没有损害。

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    品牌 : 戈德尔
    型号 : GDRPLSAMA
    输入电源 : AC220V
    等离子体温度 : 低于50度
    电极寿命 : 大于10年
    工艺气体 : 氩气,氧气,氮气,氦气
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