等离子清洗机器 半导体晶圆去胶设备

等离子清洗机在半导体、电子材料干式清洗中的应用如硅胶片的光刻胶剥离、除去有机膜、界面活性化、微细研磨、除去碳化膜等领域

在材料的表面处理过程中，等离子清洗机明显提高浸润性，并形成活性表面；清洁灰尘和油污，精细清洁和消除静电；提供功能性表面，通过等离子清洗机表面涂层处理，提高表面粘着能力，提高表面粘着的可靠性和持久性

等离子清洗机能解决粘结、印刷、喷涂、去静电等技术难题，等离子清洗机还广泛用于涂层以使表面疏水或亲水，以防雾或改变摩擦系数。

等离子处理设备应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。等离子清洗机能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。等离子清洗机的应用1.表面清洁2.表面活化 3.键合 4.去胶5.金属还原6.简单刻蚀7.去除表面有机物8.疏水实验 9.镀膜前处理等

等离子体清洗机的表面处理用于改变各种材料的表面性质，使其更容易粘合，胶合和涂漆。等离子清洗机清洁去除材料表面的污染物和残留物 等离子清洗机提高附着力：促进材料的直接粘合 为涂层、油漆等做好表面准备 等离子清洗机聚合：通过气体聚合单体 等离子清洗机活化改变表面创建功能域的属性

汽车动力锂电池的正负极片是在金属薄膜上涂覆正负极材料制作而成的，与乙醇等溶液清洗相比，等离子清洗机处理不仅不会对材料造成损伤、无残留物产生，而且能够清除材料表面有机物、增加薄膜表面浸润性，对涂覆的均匀性、热稳定性、安全性均有提升。

等离子清洗机对各种材料表面进行清洁,活化,激活,提高表面附着力，等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的

等离子清洗机在去除光刻胶方面的具体使用：

等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、介电质刻蚀、有机污染去除、晶圆减压等。使用等离子清洗机，不仅能彻底清除光刻胶等有机物，还能活化加粗晶圆表面，提高晶圆表面的浸润性，使晶圆表面更加具有粘接力。

晶圆光刻蚀胶等离子清洗机与传统设备相比较，有很多优势，设备成本不高，加上清洗过程气固相干式反应，不消耗水资源，不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂，这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺。此外，它解决了湿法去除晶圆表面光刻胶反应不准确、清洗不彻底、易引入杂质等缺点。不需要有机溶剂，对环境也没有污染，属于低成本的绿色清洗方式

作为干法清洗等离子清洗机可控性强，一致性好，不仅去除光刻胶有机物，而且还活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面浸润性

晶圆清洁-等离子清洗机用于在晶圆凸点工艺前去除污染，还可以去除有机污染、去除氟和其它卤素污染、去除金属和金属氧化

 

搜好货厂家烟台金鹰科技有限公司为您提供等离子清洗机器 半导体晶圆去胶设备的详细产品价格、产品图片等产品介绍信息，您可以直接联系厂家获取等离子清洗机器 半导体晶圆去胶设备的具体资料，联系时请说明是在搜好货网看到的。