¥5000
起订量
≥1台
总供应
1000台
所在地
山东省烟台市
微波等离子清洗机实现清洁、活化去胶、刻蚀功效
台式微波等离子去胶机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术,用于集成电路、半导体生产中晶圆的清洁去胶、硅片去除污染物和氧化物、提高粘接率,微波等离子体清洗、去胶机能够对微孔、狭缝等细小的空间进行处理,具有高度活性、效率高,且不会对电子装置产生离子损害。 通过工艺验证,微波等离子清洗机降低了接触角度,提高了引线键合强度。
台式微波等离子清洗机的相关应用
等离子清洗机器的应用包括预处理、灰化/光致抗蚀剂/聚合物剥离、芯片碰撞、静电消除、介质蚀刻、有机污染去除、芯片减压等。使用等离子清洗机不仅能去除光致抗蚀剂和其他有机物质,而且可以活化和增厚芯片表面,提高芯片表面的润湿性,使芯片表面更有粘合力。
微波等离子清洗机在半导体封装工艺中的应用:1. 防止包封分层2. 提高焊线质量3. 增加键合强度
4. 提高可靠性,尤其是多接口的高级封装
等离子清洗设备的处理是一个干躁的过程。运用电能催化反应,可提供低温工作环境,避免使用危险的湿式化学清洗物质。等离子清洗机是属于安全、靠谱、环保的,简易地说等离子体清洗机融合了等离子体物理、化学和固态表面反应,能合理有效地消除材料表层的残留污染物,确保材料表层和本身特性不受影响。
等离子清洗机适用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理、器械消毒等等
等离子清洗机用于晶圆级封装前表面预处理、晶圆级键合前表面活化、光刻胶涂覆前表面活化、晶圆表面较小particle去除、表面有机残留去除等。
等离子清洗机可兼容多尺寸晶圆、可实现多反应腔室定制、独特的CCP等离子体源设计、高洁净反应腔室,整机空间环境particle控制、可选择射频等离子发生器或双频等离子发生器、等离子体密度高、均匀性好、可升级超洁净反应腔室系统。
等离子清洗机提高材料表面清洁度、附着力、粘接力以及分子活性
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品牌 : | 戈德尔 |
型号 : | GDRPLSAMA |
电极寿命 : | 大于10年 |
输入电源 : | AC220V |
工艺气体 : | 氩气,氧气,氦气,氮气 |
等离子体温度 : | 低于50度 |
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