TCU温度控制单元-DCS控温大系统-化学合成工艺过程控制系统

无锡冠亚TCU温控系统

可实现-120度~300度的动态控温

TCU温控系统采用现有的热能（如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”）基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。

这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中（而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体），通过运算控制整个反应过程温度。

TCU温控系统应用：

化学、制药、石化、生物等行业，大型生产级别控温需求，

比如中式车间、制药化工厂区生产用各类反应器、蒸馏器、萃取系统、发酵罐等。

型号	ZLF-35NZLF-35NSZLF-35NHZLF-35NSH	ZLF-50NZLF-50NSZLF-50NHZLF-50NSH	ZLF-80NZLF-80NSZLF-80NHZLF-80NSH	ZLF-125NZLF-125NSZLF-125NHZLF-125NSH	ZLF-200NZLF-200NSZLF-200NHZLF-200NSH
设备介质温度范围	-45～250度 （根据需方提供冷源热源决定大温度值）-40～135度（采用乙二醇水配方溶液可运行宽温度范围）
ZLF-N	采用主冷源/或主热源通过比例调节系统流量，控制进入反应釜夹套的热量，同时还有一组用于加热或冷却的换热器控制升温或降温
ZLF-NS	具备ZLF- N功能之外，增加一组换热器用于高温降温功能
ZLF-NH	具备ZLF- N功能之外，增加电辅助加热功能
ZLF-NSH	具备ZLF- N功能之外，增加一组换热器用于高温降温功能和电辅助加热功能
换热器面积	3.5㎡	5㎡	8㎡	12.5㎡	20㎡
电加热功能 H	25kW	35kW	50kW	65kW	80kW
	后缀有H型号带电加热功能
控制模式	前馈PID，模糊自建树算法，LNEYA PLC控制器
通信	MODBUS RTU协议 RS485 接口,可选配 以太网接口/R232接口
温度控制选择	反应物料温度控制
温度反馈	设备导热介质出口温度、进口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度  温度反馈：默认PT100
物料温度反馈	物料温度反馈：PT100或4～20mA或通信给定
	温度反馈：默认PT100
物料温度精度	±1℃	±1℃	±1℃	±1℃	±1℃
循环泵	150L/min 2.5BAR	200L/min 2.5BAR	400L/min 2.5BAR	500L/min 2.5BAR	750L/min 2.5BAR
输入、显示	7寸彩色触摸屏显示与触摸键输入，温度曲线显示
安全保护	具有自我诊断功能，过载继电器、热保护装置、低液位保护、传感器故障保护等多种安全保障功能
执行阀件	比例调节阀 控制信号 4~20mA
管路材质	SUS304
接口尺寸	DN40	DN40	DN50	DN65	DN80
外型尺寸 cm	150*120*185	180*120*210	180*120*210	225*120*240	225*120*240
电源AC380V 50HZ	2.3kW	3.5kW	4.5kW	8kW	10.5kW
后缀H电源AC380V 50HZ	27.3kW	38.5kW	54.5kW	73kW	90.5kW
外壳材质	冷轧板喷塑 （标准颜色7035）

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