药品研发制冷加热控温系统 密闭循环恒温器

制冷加热控温系统

控温范围：-120°C ~ +300°C

特点：不仅可以控制导热介质温度，还可以控制反应物料温度

应用：各种反应器（微通道、玻璃、夹套反应器等）、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、汽车工业、半导体和电气测试、化学、制药、石化、生化、研发车间、航空航天和生物等行业。

型号		SUNDI-320	SUNDI-420W	SUNDI-430W
介质温度范围		-30℃～180℃	-38℃～180℃	-40℃～200℃
控制系统		前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器
温控模式选择		物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制		设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑		可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤
通信协议		MODBUS RTU 协议  RS 485接口
物料温度反馈		PT100
温度反馈		设备进口温度、设备出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度
导热介质温控精度		±0.5℃
反应物料温控精度		±1℃
加热功率		2kW	2kW	3kW
制冷能力	180℃	1.5kW	1.8kW	3kW
	50℃	1.5kW	1.8kW	3kW
	0℃	1.5kW	1.8kW	3kW
	-5℃	0.9kW	1.2kW	2kW
	-20℃	0.6kW	1kW	1.5kW
	-35℃		0.3kW	0.5kW
循环泵流量、压力		max10L/min  0.8bar	max10L/min  0.8bar	max20L/min  1bar
压缩机		泰康/思科普
节流方式		电子膨胀阀
蒸发器		板式换热器
操作面板		7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录
安全防护		具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环系统		整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。
制冷剂		R-404A/R507C
接口尺寸		ZG1/2	ZG1/2	ZG1/2
水冷型 W温度 20度			800L/H1.5bar~4barZG1/2	800L/H1.5bar~4barZG1/2
外型尺寸 cm		35*56*75	40*70*130	40*70*130
标配重量kg		55kg	60kg	85kg
电源		AC 220V 50HZ 2.9kW（max)	AC220V 50HZ 3.3kW（max)	AC380V 50HZ 5kW（max)
外壳材质		冷轧板喷塑 （标准颜色7035）
选配		可选配以太网接口，配置电脑操作软件
选配		选配外置触摸屏控制器，通信线距离10M
选配电源		100V 50HZ单相，110V 60HZ 单相，230V 60HZ 单相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相
选配		加热功率25kW以内sundi系列可选配介质控温精度士0.1℃，物料控温精度±0.1℃

　　小规模反应罐纯化制冷加热循环系统广泛应用于实验室、科研机构以及工业生产中的化学反应、物质纯化和工艺过程控制等领域。为了确保系统的正常运行和延长使用寿命，其放置环境的选择也是重要的。

　　一、制冷加热循环系统的放置环境要求

　　1、温度与湿度

　　小规模反应罐纯化制冷加热循环系统应放置在温度适宜、湿度较低的环境中。过高的温度可能导致系统内部元件老化加速，降低性能；而湿度过高则可能导致设备内部结露，引发短路和腐蚀等问题。

　　2、通风与防尘

　　为确保系统散热良好，避免灰尘积累影响性能，制冷加热循环系统放置地点应具备良好的通风条件。同时，可在设备周围设置防尘罩或安装空气净化设备，以降低灰尘对系统的影响。

　　3、震动与噪声

　　系统应避免放置在震动较大的环境中，以防内部元件松动或损坏。此外，制冷加热循环系统运行过程中产生的噪声可能会对周围人员造成干扰，因此应将设备放置在远离噪声源的位置。

　　4、电源与接地

　　为确保系统的稳定运行，应提供稳定的电源供应，并确保设备接地良好。制冷加热循环系统接地不仅可以防止电气故障导致的安全事故，还能有效降低电磁干扰对系统性能的影响。

　　5、空间与布局

　　制冷加热循环系统放置地点应留有足够的空间，以便日后维护和升级。同时，设备的布局应合理，方便操作人员进行操作和维护。

因此，在选择制冷加热循环系统放置地点时，应充分考虑各种因素，确保设备能够在良好的环境中稳定运行。

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